RF磁控溅射制备AZO透明导电薄膜及其性能

• 作者: 刘著光 吴正云 张峰 杨伟锋 黄火林
• 来源期刊: 半导体学报
• 学科: 物理学
• 关键词: RF磁控溅射 透明导电薄膜 AZO薄膜
• 年，卷（期）: 2008,（12）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 2311-2315
• 页数: 5页
• 分类号: O484.1
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0253-4177.2008.12.005

摘要

室温下采用RF磁控溅射技术在石英衬底E制备了多晶ZnO:Al(AZO)透明导电薄膜,通过XRD,AFM,AES,Hall效应及透射光谱等测试研究了RF溅射功率、氩气压强对薄膜的结构、电学和光学性能的影响.分析表明:在最优条件下(溅射功率为250W,氩气压强为1.2Pa时),180nm AZO薄膜的电阻率为2.68×10-3 Ω·cm,可见光区平均透射率为90%,适合作为发光二极管和太阳能电池的透明电极.所制备的AZO薄膜具有c轴择优取向,晶粒问界中的O原子吸附是限制薄膜电学性能的主要因素.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杨伟锋	厦门大学物理系	22	143	7.0	10.0
2	吴正云	厦门大学物理系	33	190	7.0	12.0
6	张峰	厦门大学物理系	40	79	5.0	8.0
7	黄火林	厦门大学物理系	4	27	3.0	4.0
8	刘著光	厦门大学物理系	4	35	3.0	4.0