制备条件对梯形聚硅氧烷取向层光取向行为的影响

• 作者: 曹晖 朱思泉 李克轩 杨槐 王影 谢萍 黄维
• 来源期刊: 北京科技大学学报
• 学科: 工学
• 关键词: 梯形聚硅氧烷 光取向 平面取向 垂直取向 光敏基团
• 年，卷（期）: 2008,（7）
• 所属期刊栏目: 冶金与材料
• 页码范围: 786-790
• 页数: 5页
• 分类号: TN104.3
• 字数: 2847字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1001-053X.2008.07.017

摘要

选用侧链含有双元光敏基团的梯形聚硅氧烷材料作为光取向材料,采用偏光显微镜(POM)及晶体旋转法,研究了梯形聚硅氧烷光取向层的制备条件,包括取向剂浓度、紫外光辐照度及光照时间对光取向层的取向行为的影响.结果表明,取向剂浓度越大,光敏基团更易于组装成垂直取向状态,进而诱导液晶分子形成垂直取向的分子排列方式.在一定的紫外光辐照度范围内可以有效地引起偶氮苯光敏基团的面内、面外异构化及再取向,有利于取向层诱导液晶分子形成平面取向的分子排列方式.紫外光光照时间的增加有利于取向层诱导液晶分子形成平面取向的分子排列方式.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	朱思泉	首都医科大学附属北京同仁医院眼科中心	43	235	10.0	14.0
2	杨槐	北京科技大学材料科学与工程学院	33	131	5.0	9.0
3	曹晖	北京科技大学材料科学与工程学院	20	57	3.0	6.0
4	谢萍	中国科学院化学研究所高分子物理与化学国家重点实验室	10	80	4.0	8.0
5	黄维	北京科技大学材料科学与工程学院	4	2	1.0	1.0
6	李克轩	北京科技大学材料科学与工程学院	6	7	2.0	2.0
7	王影	北京科技大学材料科学与工程学院	1	2	1.0	1.0