中心波长为13.9 nm的正入射Mo/Si多层膜

• 作者: 尼启良 王晓光 范鲜红 陈波
• 来源期刊: 发光学报
• 学科: 物理学
• 关键词: Mo/Si多层膜 反射率 极紫外波段
• 年，卷（期）: 2008,（2）
• 页码范围: 405-408
• 页数: 4页
• 分类号: O434
• 字数: 2453字
• 语种: 中文

摘要

用由铜靶激光等离子体光源等组成的反射率计对自行设计的周期厚度为7.14 nm 的120层Mo/Si多层膜进行极紫外(EUV)波段反射率测量.由于多层膜层数增加所引起的吸收、膜层界面之间的扩散以及镀膜过程中的膜厚控制误差或表面被氧化(污染)等原因,正入射Mo/Si多层膜在13.9 nm处的反射率低于理论计算值73.2%, 最后用原子力显微镜(AFM)测量其表面粗糙度为σ＝0.401 nm.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈波	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所应用光学国家重点实验室	167	1116	17.0	24.0
2	尼启良	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所应用光学国家重点实验室	35	217	8.0	13.0
3	王晓光	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所应用光学国家重点实验室	38	172	7.0	11.0