化学抛光和退火对钛酸锶基片表面改性研究

• 作者: 何明珠 何晓明 华如江 张连翰 李志鸿 杭寅 汪隽 陈光珠
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 钛酸锶 超光滑表面 化学机械抛光 退火
• 年，卷（期）: 2008,（5）
• 页码范围: 1107-1112
• 页数: 6页
• 分类号: O786
• 字数: 2538字
• 语种: 中文

摘要

本文运用原子力显微镜检测传统机械抛光和化学机械抛光以及退火前后的钛酸锶(STO)衬底表面,研究了化学机械抛光和退火对钛酸锶(STO)基片表面形貌的影响,结果表明化学抛光可以使表面粗糙度达到0.214 nm,明显优于机械抛光.对比测量退火前后钛酸锶(STO)基片的双晶摇摆曲线,表明退火可以明显改善晶体质量,有利于实现超光滑STO基片的加工.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杭寅	中国科学院上海光学与精密机械研究所	44	386	10.0	17.0
2	何晓明	中国科学院上海光学与精密机械研究所	19	100	7.0	9.0
3	张连翰	中国科学院上海光学与精密机械研究所	24	134	7.0	10.0
4	汪隽	成都理工大学化学化工学院	3	53	3.0	3.0
5	陈光珠	中国科学院上海光学与精密机械研究所	2	16	2.0	2.0
6	李志鸿	中国科学院上海光学与精密机械研究所	2	17	2.0	2.0
7	华如江	中国科学院上海光学与精密机械研究所	1	7	1.0	1.0