离子束辅助沉积制备高功率激光薄膜的研究

• 作者: 张大伟 范正修 贺洪波 邵建达
• 来源期刊: 激光技术
• 学科: 物理学
• 关键词: 薄膜 离子束辅助沉积 高功率激光薄膜 激光损伤阈值
• 年，卷（期）: 2008,（1）
• 所属期刊栏目: 综述与评述
• 页码范围: 57-60
• 页数: 4页
• 分类号: O484.1
• 字数: 4591字
• 语种: 中文

摘要

综述了离子束辅助沉积技术在高功率激光薄膜制备中的应用研究进展.指出该技术在制备高激光损伤阈值的薄膜中存在的问题,即出现过高的堆积密度,会给薄膜带来杂质缺陷、化学计量比缺陷、损伤缺陷、晶界缺陷,制备薄膜的残余应力存在着压应力增加的趋势,会改变薄膜的晶体结构等.并指出了该研究领域的研究方向.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	邵建达	中国科学院上海光学精密机械研究所	212	2131	21.0	29.0
2	张大伟	上海理工大学光学与电子工程学院	117	391	11.0	15.0
4	范正修	中国科学院上海光学精密机械研究所	203	2312	23.0	32.0
5	贺洪波	中国科学院上海光学精密机械研究所	48	491	16.0	19.0