脉冲电沉积CeO2-SiO2/Ni-W-P纳米复合镀层性能研究

• 作者: 徐瑞东 王军丽 王绍华
• 来源期刊: 材料保护
• 学科: 工学
• 关键词: 纳米复合镀层 脉冲电沉积 脉冲导通时间 沉积速率 显微硬度 表面形貌
• 年，卷（期）: 2008,（10）
• 所属期刊栏目: 工艺技术
• 页码范围: 37-39,46
• 页数: 4页
• 分类号: TQ153
• 字数: 3015字
• 语种: 中文

摘要

为了探讨脉冲参数对CeO2-SiO2/Ni-W-P四元纳米复合镀层性能的影响,采用脉冲沉积的方法,在普通碳钢表面制备了CeO2-SiO2/Ni-W-P纳米复合镀层.在脉冲关断时间1 000μs和脉冲峰值电流密度30 A/dm2下,研究了脉冲导通时间对纳米复合镀层组织及性能的影响,采用能谱分析、硬度测试、扫描电镜(SEM)等技术对镀层化学组成、沉积速率、显微硬度和表面形貌进行了表征.结果表明,纳米复合镀层中CeO2和SiO2颗粒的质量分数随着脉冲导通时间的延长而增加,当脉冲导通时间为400～600μs时,沉积速率为32.33～38.22μm/h,显微硬度为609～674 HV;脉冲导通时间由100μs增加到400μs时,纳米复合镀层晶粒尺寸降低,但当脉冲导通时间再由400μs增加到1000μs时,纳米复合镀层晶粒尺寸又有所增加.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	徐瑞东	昆明理工大学材料与冶金工程学院	80	734	16.0	22.0
2	王军丽	昆明理工大学分析测试研究中心	58	398	10.0	16.0
3	王绍华	昆明理工大学分析测试研究中心	13	102	6.0	9.0