第8届结技术国际研讨会

• 来源期刊: 国际学术动态
• 学科: 工学
• 关键词: 国际研讨会 硅技术 集成电路工艺 专题研讨会 物理学会 复旦大学 IEEE 学术组织
• 年，卷（期）: gjxsdt_2008,（6）
• 页码范围: 54
• 页数: 1页
• 分类号: TN492

摘要

从2000年开始，结技术国际研讨会（IWJT）由日本应用物理学会硅技术分会发起在日本每年召开一届，到2008年已经是第8届了。从2004年开始，IWJT开始在上海和日本之间交替召开。复旦大学承办了2004、2006和2008年的IWJT。IWJT是一个在国际学术组织IEEE注册的正式系列会议，是集成电路工艺领域中一个档次很高的专题研讨会。