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摘要:
讨论了半导体制造废气处理技术与排放,包括热排气、酸性排气、碱性排气和有机排气这四种工艺废气处理设备的应用和处理原理,以及在实际的操作运行中不同系统控制参数对处理效率的影响,并通过实验确定合理的参数设定范围.特别阐述了有机废气处理技术和相关处理设备的应用和操作运行,以及实现系统高效节能运行的技术实践,对半导体厂实现环境保护以及降低气态分子级污染物对生产的影响提供了现实可行的操作依据.
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文献信息
篇名 半导体制程废气处理技术实践
来源期刊 半导体技术 学科 工学
关键词 半导体制造 气态分子级污染物 酸性排气 碱性排气 有机排气 挥发性有机成分
年,卷(期) 2008,(9) 所属期刊栏目 技术专栏
研究方向 页码范围 752-755
页数 4页 分类号 TN305.97
字数 3607字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1003-353X.2008.09.004
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 杨骥 上海交通大学环境科学和工程学院 20 151 8.0 12.0
2 陈玉峰 上海交通大学环境科学和工程学院 1 0 0.0 0.0
传播情况
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2008(0)
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研究主题发展历程
节点文献
半导体制造
气态分子级污染物
酸性排气
碱性排气
有机排气
挥发性有机成分
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
半导体技术
月刊
1003-353X
13-1109/TN
大16开
石家庄179信箱46分箱
18-65
1976
chi
出版文献量(篇)
5044
总下载数(次)
38
总被引数(次)
24788
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