低介电常数纯硅数分子筛薄膜的制备与表征

• 作者: 王利军 田震 袁昊 解丽丽
• 来源期刊: 材料工程
• 关键词: 紫外光解法 有机模板剂 氧化硅分子筛薄膜
• 年，卷（期）: 2008,（10）
• 所属期刊栏目: "2008第七届中国国际纳米科技(武汉)研讨会"论文专辑
• 页码范围: 110-113
• 页数: 4页
• 分类号: O649
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-4381.2008.10.029

摘要

介绍了一种制备具有低介电常数氧化硅分子筛薄膜的新方法.以正硅酸乙酯为硅源,四丙基氢氧化铵(TPAOH)为模板剂和碱源,采取水热晶化技术,通过原位法在硅晶片表面制备出纯二氧化硅透明分子筛薄膜;采用紫外光解法脱除分子筛薄膜孔道内的模板剂,制备出具有低介电性能的氧化硅分子筛薄膜.使用FT-IR,XRD和SEM对样品进行了结构表征,并采用阻抗分析仪测量了薄膜的介电常数,采用纳米硬度计测量薄膜的弹性模量和硬度.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王利军	上海第二工业大学城市建设与环境工程学院	56	178	8.0	10.0
2	解丽丽	上海第二工业大学城市建设与环境工程学院	35	138	8.0	9.0
3	袁昊	上海第二工业大学城市建设与环境工程学院	41	198	8.0	10.0
4	田震	上海第二工业大学城市建设与环境工程学院	25	118	7.0	9.0