在金属基带上用激光脉冲沉积法制备帽子层CeO2的研究

• 作者: 冯校亮 刘慧舟 古宏伟 周其 张华 杨坚
• 来源期刊: 低温与超导
• 学科: 工学
• 关键词: 脉冲激光沉积(PLD) CeO2 YBCO
• 年，卷（期）: 2008,（12）
• 所属期刊栏目: 超导技术
• 页码范围: 19-22
• 页数: 4页
• 分类号: TM2
• 字数: 2130字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-7100.2008.12.006

摘要

利用脉冲激光沉积法在带有Y2O3、YSZ隔离层的金属基带上制备了CeO2帽子层.主要讨论了温度、激光脉冲频率对CeO2隔离层的影响,用X射线θ~2θ扫描、Φ扫描对薄膜的取向和织构进行表征.结果表明在温度为610℃、激光频率为10Hz、1Pa氧压下制备的CeO2隔离层能有效地继承衬底的织构,平均平面内Φ扫描半高宽度为6.9°.扫描电镜可以观察到薄膜表面致密且无裂纹,原子力显微镜观测表面平均粗糙度在10nm以下.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杨坚		34	201	6.0	13.0
2	刘慧舟		24	209	6.0	14.0
3	冯校亮		4	11	2.0	3.0
4	张华		20	152	5.0	12.0
5	周其		7	15	2.0	3.0
6	古宏伟		33	206	6.0	13.0