带溴端基的活性膜/多孔SiO2复合体

• 作者: 李敏 邹志明 闻荻江
• 来源期刊: 应用化学
• 学科: 化学
• 关键词: 硅烷偶联剂 多孔SiO2 表面活性膜 溴
• 年，卷（期）: 2008,（11）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 1320-1323
• 页数: 4页
• 分类号: O652.6
• 字数: 2603字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-0518.2008.11.015

摘要

用pH值为3.5～4.0的冰乙酸水溶液将硅烷偶联剂配制成所需浓度的溶液,对多孔SiO2表面进行硅烷化处理,在过量的氢溴酸和-10～0 ℃低温作用下,合成了带溴端基的活性膜/多孔SiO2复合体. 用X射线光电子能谱、扫描电子显微镜表征了硅烷化后的表面结构,用红外光谱表征了复合体表面的溴端基,用X光荧光光谱测量其表面的溴含量,通过冷水洗涤和热水煮沸考察水对含溴量的影响. 结果表明,复合体表面含有稳定结合活性膜结构,并且能在其端基接上溴基团,最高含溴质量分数达0.34%. 水对复合体表面端基溴的洗脱量较大,热水对于溴的洗脱率比冷水大. 先水洗再溴化的试样要比先溴化再水洗的试样含溴量高. 经30 min的冷水洗涤或热水煮沸后,前者的含溴质量分数降至0.15%和0.13%,后者的含溴质量分数降至0.09%和0.03%.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	闻荻江	苏州大学材料与化学化工学部	113	1183	19.0	29.0
2	李敏	苏州大学材料与化学化工学部	78	462	10.0	19.0
3	邹志明	三明学院化学与生物工程系	18	69	5.0	7.0