纯钛表面电解液微弧碳氮化制备碳氮化钛厚膜

• 作者: 刘炳 孙文磊 憨勇 李新梅
• 来源期刊: 金属学报
• 学科: 工学
• 关键词: 电解液微弧碳氮化 Ti Ti(CxN1-x)膜
• 年，卷（期）: 2008,（9）
• 页码范围: 1105-1110
• 页数: 6页
• 分类号: TG174.44
• 字数: 4573字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0412-1961.2008.09.015

摘要

采用电解液微弧碳氮化技术(PECN),在纯钛试样表面沉积出较厚且与基体结合牢固的多孔纳米Ti(CxN1-)改性层,研究了改性层结构和组成随PECN处理时间的演变规律.结果表明:随放电处理时间延长,PECN-Ti(CxN1-)膜层厚度,膜层中C/N的原子比以及微孔直径皆增加.处理150 min时,Ti(CxN1-x)膜层厚度可达15 μm,且膜层是由晶粒尺寸为40-60 nm的纳米晶粒组成.处理过程中有氢渗入,并在Ti(CxN1-x)层下面形成富含TiH2的过渡层.后期的真空退火处理可以将氢除去使TiH2完全分解,而不影响表面Ti(CxN1-x)膜的成分和形貌.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘炳	新疆大学机械工程学院	74	479	12.0	18.0
2	孙文磊	新疆大学机械工程学院	325	1422	16.0	21.0
3	憨勇	西安交通大学金属材料强度国家重点实验室	56	1174	19.0	31.0
4	李新梅	新疆大学机械工程学院	52	200	8.0	12.0