碳氟基团修饰的疏水微孔二氧化硅膜的制备与表征

• 作者: 于春晓 李群艳 王艳丽 王飞 聂祚仁 钟振兴 韦奇
• 来源期刊: 化学学报
• 学科: 化学
• 关键词: 微孔SiO2膜 孔结构 疏水性 H2渗透分离
• 年，卷（期）: 2008,（1）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 44-48
• 页数: 5页
• 分类号: O6
• 字数: 3785字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0567-7351.2008.01.008

摘要

采用三氟丙基三乙氧基硅烷(TFPTES)和正硅酸乙酯(TEOS)作为前驱体,通过溶胶-凝胶法制备了三氟丙基修饰的SiO2膜材料.利用扫描电镜、N2吸附、红外光谱仪以及视频光学接触角测量仪对膜的断面形貌、孔结构以及疏水性能进行了表征.结果表明,随着三氟丙基三乙氧基硅烷加入量的增大,膜的疏水性逐渐增强,膜的孔结构基本保持不变.当TFPTES/VEOS的物质的量之比达到0.6时,膜对水的接触角达到111.6°±0.5°,膜材料仍保持良好的微孔结构,其孔体积为0.19 cm3·g-1,孔径为0.97 nm.氢气在修饰后SiO2膜中的输运遵循微孔扩散机理,200℃时膜材料的H2渗透率达到1.18×10-7 mol·m-2·Pa-1·s-1,H2/CO2的分离系数达到7.0.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	聂祚仁	北京工业大学材料科学与工程学院	241	3474	28.0	46.0
2	王飞	北京工业大学材料科学与工程学院	23	163	8.0	12.0
3	李群艳	北京工业大学材料科学与工程学院	39	328	13.0	16.0
4	韦奇	北京工业大学材料科学与工程学院	43	383	13.0	17.0
5	王艳丽	北京工业大学材料科学与工程学院	5	56	4.0	5.0
6	于春晓	北京工业大学材料科学与工程学院	5	56	4.0	5.0
7	钟振兴	北京工业大学材料科学与工程学院	3	55	3.0	3.0