宽束冷阴极离子源离子能量及能量分布的研究

• 作者: 严一心 弥谦 徐均琪 杭凌侠 董网妮
• 来源期刊: 光电工程
• 学科: 物理学
• 关键词: 离子能量 能量分布 离子源 离子束辅助沉积(IBAD) 薄膜
• 年，卷（期）: 2008,（6）
• 所属期刊栏目: 薄膜光学
• 页码范围: 23-27,53
• 页数: 6页
• 分类号: O484
• 字数: 2656字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1003-501X.2008.06.006

摘要

介绍了一种用于离子束辅助沉积光学薄膜的新型宽束冷阴极离子源,详细叙述了该源的结构和工作过程.采用五栅网离子能量测试装置研究了离子源的离子能量及能量分布.结果表明,探针接收的离子最低能量随着引出电压和真空度的升高而升高.离子能量分布概率密度函数为单峰函数,其峰值位置随着真空度的降低向低能量方向移动,随着引出电压的升高向高能量方向移动.当引出电压为200～1200V时,离子平均能量为600～1600eV,呈线性规律变化.这种离子源的离子平均初始动能约为430～480eV.了解和掌握离子源的这些特性和参数,可以有效的对镀膜过程的微观环境(离子密度、离子能量等)进行控制,促进薄膜制备工艺更好地进行.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	弥谦	西安工业大学陕西省薄膜技术与光学检测重点实验室	60	260	9.0	14.0
2	徐均琪	西安工业大学陕西省薄膜技术与光学检测重点实验室	87	611	13.0	20.0
3	杭凌侠	西安工业大学陕西省薄膜技术与光学检测重点实验室	93	777	15.0	22.0
4	严一心	西安工业大学陕西省薄膜技术与光学检测重点实验室	43	232	9.0	12.0
5	董网妮	西安工业大学陕西省薄膜技术与光学检测重点实验室	2	18	2.0	2.0