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摘要:
基于晶体场理论,采用3d1离子在D2d对称中的晶场能级公式和EPR参量高阶微扰公式,计算了ThSiO4:V4+晶体的光谱和电子顺磁共振(EPR)参量g因子g//,g⊥和超精细结构常数A//,A⊥.计算结果与实验发现很好吻合.由于晶体中顺磁杂质中心的EPR参量与其缺陷结构密切相关,本计算还获得了V4+杂质中心缺陷结构的信息.对上述结果进行了讨论.
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文献信息
篇名 ThSiO4:V4+晶体的光谱及EPR参量的理论研究
来源期刊 人工晶体学报 学科 物理学
关键词 晶体场理论 电子顺磁共振参量 缺陷结构 ThSiO4 V4+晶体
年,卷(期) 2008,(5) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 1145-1147
页数 3页 分类号 O737
字数 1704字 语种 中文
DOI
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1 黄永平 宜宾学院物理与电子工程系 10 37 3.0 6.0
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人工晶体学报
月刊
1000-985X
11-2637/O7
16开
北京朝阳区红松园1号中材人工晶体研究院,北京733信箱
1972
chi
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