合成革用聚氨酯/纳米SiO2原位杂化膜的制备及性能研究

• 作者: 刘若望 张秀丽 李振云 范浩军 袁继新 陈意
• 来源期刊: 中国皮革
• 学科: 工学
• 关键词: 聚氨酯合成革 纳米SiO2 原位杂化 性能
• 年，卷（期）: 2008,（17）
• 所属期刊栏目: 理论探讨·试验研究
• 页码范围: 24-28
• 页数: 5页
• 分类号: TQ63
• 语种: 中文

摘要

采用原位有机一无机杂化技术将纳米SiO2引入合成革用聚氨酯膜中,并对杂化薄膜的表面/截面形态、力学性能、透水汽性、吸水率和防霉性能进行了检测.结果表明:当SiO2的含量不超过0.50%时,原位生成的SiO2颗粒不仅在聚氨酯薄膜的表面和截面分布均匀,且其平均粒径被控制在100nm左右;同时,纳米级SiO2的原位引入对聚氨酯薄膜的抗张强度和透水汽性均有提高;而且本试验所制备的聚氨酯/纳米SiO2原位杂化膜还表现出优异的防霉(黑曲霉)性能.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	袁继新	温州大学化学与材料科学学院	22	319	10.0	17.0
2	范浩军	四川大学皮革化学与工程教育部重点实验室	107	841	16.0	22.0
3	刘若望	温州大学化学与材料科学学院	25	257	9.0	15.0
4	陈意	四川大学皮革化学与工程教育部重点实验室	22	123	7.0	10.0
5	张秀丽	四川大学皮革化学与工程教育部重点实验室	2	11	2.0	2.0
6	李振云	四川大学皮革化学与工程教育部重点实验室	1	9	1.0	1.0