氩气压强对射频磁控溅射ZnO:Al薄膜结构和性能的影响

• 作者: 刘著光 吕英 吴正云 杨伟锋 黄火林
• 来源期刊: 光谱实验室
• 学科: 化学
• 关键词: RF磁控溅射 透明导电薄膜 AZO薄膜.
• 年，卷（期）: 2008,（3）
• 页码范围: 425-427
• 页数: 3页
• 分类号: O657.39
• 字数: 1741字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-8138.2008.03.037

摘要

以ZnO:Al2O3为靶材在石英玻璃衬底上射频磁控溅射制备多晶ZnO:Al(AZO)薄膜,通过XRD、AFM以及Hall效应、透射光谱等测试研究了RF溅射压强对薄膜结构、电学与光学性能的影响.分析表明:所制备的薄膜具有c轴择优取向,当压强为1.2Pa时薄膜的电阻率降至最低(2.7×10-3Ω·cm).薄膜在可见光区平均透射率高于90%,光学带隙均大于本征ZnO的禁带宽度.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杨伟锋	厦门大学物理系	22	143	7.0	10.0
2	吴正云	厦门大学物理系	33	190	7.0	12.0
6	黄火林	厦门大学物理系	4	27	3.0	4.0
7	吕英	厦门大学物理系	4	32	3.0	4.0
8	刘著光	厦门大学物理系	4	35	3.0	4.0