射频磁控溅射参数对 Ba0.7Sr0.3TiO3薄膜结构和性能的影响

• 作者: 于军 周申 宋超 杨卫明 王耘波
• 来源期刊: 电子器件
• 学科: 工学
• 关键词: Ba0.7Sr0.3TiO3薄膜 射频溅射参数 影响 性能
• 年，卷（期）: 2008,（1）
• 所属期刊栏目: 显示材料
• 页码范围: 216-219
• 页数: 4页
• 分类号: TN304.055
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1005-9490.2008.01.050

摘要

采用射频磁控溅射法在 Pt/TiO2/SiO2/Si(100) 衬底上制备了Ba0.7Sr0.3TiO3薄膜,研究了工作气压、衬底温度等溅射参数对Ba0.7Sr0.3TiO3薄膜结构和电学性质的影响.使用 XRD 分析了工作气压为 2Pa、衬底温度分别为 200 ℃、400 ℃、600℃(组a),以及衬底温度为600℃、工作气压分别为 1.5Pa、2.0Pa、2.5Pa、3.0Pa 和 5.0Pa (组b)两组薄膜的微结构,结果表明工作气压在 2.5Pa 以下、衬底温度为 600℃时沉积的薄膜具有较好的钙钛矿结构.在 1.5Pa 条件下溅射的薄膜具有明显的(111)择优取向.在2.5Pa时,Pt/Ba0.7Sr0.3TiO3/Pt电容有最优铁电性能,在外加4 V电压(电场为 80 kV/cm)下,剩余极化 (Pr) 和矫顽场(Ec)分别为 2.32 μC/cm2、21.1 kV/cm.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	于军	华中科技大学电子科学与技术系	103	537	11.0	16.0
2	王耘波	华中科技大学电子科学与技术系	68	398	10.0	16.0
3	宋超	华中科技大学电子科学与技术系	4	12	3.0	3.0
4	杨卫明	华中科技大学电子科学与技术系	6	38	3.0	6.0
5	周申	华中科技大学电子科学与技术系	1	4	1.0	1.0