凹非球面检测的双计算全息图设计及制作

• 作者: 伍凡 侯溪 张晶 谢意 邱传凯 陈强
• 来源期刊: 光电工程
• 学科: 工学
• 关键词: 测量 凹非球面 计算全息图 湿法刻蚀
• 年，卷（期）: 2008,（6）
• 所属期刊栏目: 先进光学制造技术
• 页码范围: 59-62
• 页数: 4页
• 分类号: O438.12|TB96
• 字数: 1936字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1003-501X.2008.06.013

摘要

基于全息补偿检验非球面的原理,提出并设计了一种二元纯相位型双计算全息图.该全息图由主全息和对准全息两部分组成,用于检测非球面的主全息位于基底的中心,而对准全息位于其边缘,用来精确定位主全息,从而消除离焦、偏心及倾斜所引入的误差.两部分全息同心是实现对主全息准确定位的前提,为此,提出了"一次曝光,两次刻蚀"的制作方法,即一次性将两部分图形在同一块掩膜版上制作出,曝光一次后,基底经两次刻蚀制作出具有两种不同相位深度的双计算全息图.最后给出了一个检测?40、F2抛物面镜的双计算全息设计实例,并将其检测结果与自准直检测结果比较,二者吻合良好,验证了该设计方法的正确性及制作工艺的可行性.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	伍凡	中国科学院光电技术研究所	79	917	19.0	25.0
2	侯溪	中国科学院光电技术研究所	28	403	12.0	19.0
3	陈强	中国科学院光电技术研究所	80	815	18.0	25.0
4	张晶	中国科学院光电技术研究所	71	1325	21.0	35.0
5	谢意	中国科学院光电技术研究所	3	63	3.0	3.0
9	邱传凯	中国科学院光电技术研究所	23	186	9.0	12.0