提高CVD金刚石薄膜附着力的方法及其研究进展

• 作者: 史新伟 周秋霞 姚宁 王新昌 靳慧智
• 来源期刊: 材料导报
• 学科: 工学
• 关键词: 金刚石薄膜 附着力 预处理 过渡层 沉积条件
• 年，卷（期）: 2008,（3）
• 所属期刊栏目: 新材料新技术
• 页码范围: 85-89
• 页数: 5页
• 分类号: TB3
• 字数: 6689字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1005-023X.2008.03.021

摘要

概述了金刚石薄膜与衬底附着力研究的最新进展,详细讨论了衬底材料的性质、衬底预处理方法、过渡层、负偏压以及CVD沉积条件对金刚石薄膜附着力的影响,总结出提高附着力的主要方法,并分析了金刚石薄膜的应用状况,指出了扩大金刚石薄膜应用的新方向及存在的主要问题.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	姚宁	郑州大学物理工程学院材料物理教育部重点实验室	122	692	12.0	18.0
2	王新昌	郑州大学物理工程学院材料物理教育部重点实验室	30	79	4.0	7.0
3	史新伟	郑州大学物理工程学院材料物理教育部重点实验室	28	177	7.0	12.0
4	周秋霞	郑州大学物理工程学院材料物理教育部重点实验室	3	7	1.0	2.0
5	靳慧智	郑州大学物理工程学院材料物理教育部重点实验室	2	11	2.0	2.0