MOCVD反应器热流场的数值模拟研究

• 作者: 任晓敏 张霞 王琦 蔡世伟 钟树泉 黄永清 黄辉
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 工学
• 关键词: MOCVD 反应器 输运过程 热对流
• 年，卷（期）: 2008,（6）
• 页码范围: 1342-1348
• 页数: 7页
• 分类号: TN304
• 字数: 4733字
• 语种: 中文

摘要

本文以低压、旋转、垂直喷淋结构的MOCVD反应器为对象,应用二维数学模型分析与计算,对反应器内部的质量输运过程进行了比较详细的研究与讨论.通过计算发现:在一定范围内,增加进气流量Q、降低操作压力P、设定适宜的生长温度t、保持合理的基座转速ω等,不仅可以非常有效地抑制热浮力效应,同时也使衬底表面流体的流动速度进一步增加,从而实现反应器内部的流场和温度场的均匀分布.研究的结果,不仅为高品质的外延生长提供了有效的解决方案,而且也为MOCVD反应器的优化设计提供了重要的参考依据.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	黄永清	北京邮电大学光通信与光波导教育部重点实验室	196	987	13.0	18.0
2	任晓敏	北京邮电大学光通信与光波导教育部重点实验室	189	942	13.0	18.0
3	张霞	北京邮电大学光通信与光波导教育部重点实验室	71	395	11.0	15.0
4	黄辉	北京邮电大学光通信与光波导教育部重点实验室	59	282	10.0	12.0
5	王琦	北京邮电大学光通信与光波导教育部重点实验室	82	480	13.0	19.0
6	钟树泉	北京邮电大学光通信与光波导教育部重点实验室	3	25	1.0	3.0