840 nm VCSEL阵列湿法氧化研究

• 作者: 侯立峰 冯源 姜晓光 谢浩锐 赵英杰 郝永芹 钟景昌
• 来源期刊: 半导体技术
• 学科: 工学
• 关键词: 垂直腔面发射激光器 阵列 湿法氧化 热相互作用
• 年，卷（期）: 2008,（6）
• 所属期刊栏目: 器件制造与应用
• 页码范围: 473-476
• 页数: 4页
• 分类号: TN248.4
• 字数: 2776字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1003-353X.2008.06.004

摘要

湿法氧化工艺已经成为制备垂直腔面发射激光器(VCSEL)及其阵列的关键技术,为提高器件的散热性能,对单元器件采用环行分布孔的氧化窗口,优化设计了分布孔的数目与间距.同时从瞬态热传导方程对构成激光器阵列单元器件的热相互作用进行了理论的分析.采用湿法氧化工艺制备了840 nm、3×3二维VCSEL阵列,对阵列器件的光电特性、光谱及近场等进行了测量,证明器件性能良好.