电沉积Ni80Fe20/Cu纳米多层膜及其巨磁电阻效应

• 作者: 姚素薇 姜莹 张卫国
• 来源期刊: 化工学报
• 关键词: 电沉积 多层膜 巨磁电阻 超晶格 NiFe/Cu
• 年，卷（期）: 2008,（2）
• 所属期刊栏目: 材料化学工程与纳米技术
• 页码范围: 503-507
• 页数: 5页
• 分类号: O646
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0438-1157.2008.02.039

摘要

采用单槽控电位双脉冲技术在n-Si(111)晶面上制备了[Ni80Fe20/Cu]n多层膜,用SEM观测了多层膜的断面形貌,利用X射线衍射(XRD)表征了多层膜的超晶格结构.采用四探针法研究了多层膜的巨磁电阻(GMR)性能,结果表明,多层膜的GMR值随着Cu层厚度的变化发生周期性振荡,随着NiFe层厚度的增加先增大后减小;当样品结构为[NiFe(1.6 nm)/Cu(2.6 nm)]80时,GMR值可达6.4%;多层膜的最低饱和磁场仅为750Oe.磁滞回线测试结果表明,反铁磁耦合多层膜具有较小的矩形比,更适宜作为磁头材料.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张卫国	天津大学化工学院杉山表面技术研究室	137	1608	22.0	33.0
2	姚素薇	天津大学化工学院杉山表面技术研究室	159	2047	26.0	36.0
3	姜莹	天津大学化工学院杉山表面技术研究室	4	18	3.0	4.0