碳化硅颗粒表面磁控溅射镀铜膜的研究

• 作者: 俞晓正 徐政 沈志刚
• 来源期刊: 材料工程
• 关键词: 磁控溅射 金属膜 碳化硅 X射线衍射仪
• 年，卷（期）: 2008,（3）
• 所属期刊栏目: 测试与表征
• 页码范围: 32-35
• 页数: 4页
• 分类号: TB79|TB333
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-4381.2008.03.008

摘要

采用直流磁控溅射方法,在SiC颗粒表面成功地沉积了金属铜膜.利用场发射扫描电子显微镜(FESEM)、能谱仪(EDS)和电感耦合等离子体发射光谱仪(ICP-AES)等测试仪器对其表面形貌和组份进行了表征.重点讨论了不同的沉积条件对薄膜结晶的影响,并用X射线衍射仪(XRD)对其进行了表征.结果表明,溅射镀膜时,通过控制SiC颗粒的运动方式,可以在其表面镀上均匀、连续和致密的金属膜.溅射时间越长或溅射功率越大或温度越高,都有利于薄膜结晶.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	沈志刚	北京航空航天大学粉体技术北京市重点实验室	65	491	11.0	19.0
3	徐政		28	128	7.0	9.0
4	俞晓正	北京航空航天大学粉体技术北京市重点实验室	7	66	5.0	7.0