光化学氧化技术处理印染废水研究进展

• 作者: 夏邦天 许璟 郑广宏
• 来源期刊: 水处理技术
• 学科: 地球科学
• 关键词: 印染废水 光化学氧化 臭氧 Fenton试剂 光催化氧化
• 年，卷（期）: 2008,（2）
• 所属期刊栏目: 综述与述评
• 页码范围: 5-8
• 页数: 4页
• 分类号: X703.1
• 字数: 3224字
• 语种: 中文

摘要

介绍了几种操作简单、效果较好的光化学氧化处理工艺:UV/O3法、光助Fenton法和光催化氧化法,探讨了该领域存在的问题、研究的热点与方向,并时光化学氧化工艺处理印染废水的前景进行了展望.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	郑广宏	同济大学环境科学与工程学院	54	894	18.0	27.0
2	夏邦天	同济大学环境科学与工程学院	7	230	5.0	7.0
3	许璟		2	95	2.0	2.0