sol-gel法工艺条件对ZAO薄膜晶面取向性的影响

• 作者: 徐模辉 王华 许积文
• 来源期刊: 电子元件与材料
• 学科: 物理学
• 关键词: 无机非金属材料 sol-gel法 ZAO薄膜 晶面取向
• 年，卷（期）: 2008,（7）
• 所属期刊栏目: 研究与试制
• 页码范围: 50-54
• 页数: 5页
• 分类号: O484.4
• 字数: 4404字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-2028.2008.07.016

摘要

分析了溶剂、溶胶稳定剂、溶胶浓度和热处理等工艺因素对sol-gel法制备ZAO薄膜结晶及择优取向生长行为的影响.结果发现上述各因素均需优选.采用乙二醇甲醚做溶剂,乙醇胺为稳定剂,溶胶浓度为0.75 mol/L,干燥温度为80 ℃,预热温度为250 ℃,退火温度为600 ℃,可获得(002)高度取向的高质量ZAO薄膜,最低电阻率为1.93×10-2 Ω·cm,可见光范围内平均透射率超过90%.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王华	桂林电子科技大学信息材料科学与工程系	98	463	13.0	17.0
2	许积文	桂林电子科技大学信息材料科学与工程系	68	171	6.0	10.0
3	徐模辉	桂林电子科技大学信息与通信学院	4	28	2.0	4.0