CMP终点监测装置的设计

• 作者: 周国安 柳滨 王姝媛 王学军 贺敬良
• 来源期刊: 半导体技术
• 学科: 工学
• 关键词: 化学机械抛光 终点监测 电流电压转换
• 年，卷（期）: 2008,（8）
• 所属期刊栏目: 技术专栏(CMP)
• 页码范围: 670-673
• 页数: 4页
• 分类号: TN305.5
• 字数: 2196字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1003-353X.2008.08.007

摘要

对CMP工艺过程中的一种终点监测技术进行论述,分析了国外某公司抛光机的电机电流变化监测技术,在此基础上,设计了一种高精度的电流监测和电流电压转换电路,电流监测基于LTC6102高精度电流监测放大器,电流电压转换电路基于MAX472高精度电流传感放大电路和MAX951微功耗/比较放大电路.改进的电路构成简单,监测精度高,成功实现了从安培级的负载电流中辨别出微安级电流变化的精度.实验证明,该电路精度好于1%,显著提高了终点监测精度.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	柳滨	中国电子科技集团公司第四十五研究所	10	42	4.0	6.0
2	贺敬良		62	228	8.0	12.0
3	王学军		6	27	3.0	5.0
4	周国安	中国电子科技集团公司第四十五研究所	13	43	4.0	6.0
5	王姝媛		1	3	1.0	1.0