射频磁控溅射法制备掺锆氧化锌透明导电薄膜

• 作者: 刘汉法 张化福 类成新 袁长坤
• 来源期刊: 电子元件与材料
• 学科: 物理学
• 关键词: 电子技术 ZnO∶Zr薄膜 透明导电薄膜 磁控溅射
• 年，卷（期）: 2008,（11）
• 所属期刊栏目: 研究与试制
• 页码范围: 43-45
• 页数: 3页
• 分类号: O484.1
• 字数: 2427字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-2028.2008.11.013

摘要

利用射频磁控溅射法在室温下制备出了掺锆氧化锌(ZnO∶Zr)透明导电薄膜.研究了溅射压强对ZnO∶Zr薄膜表面形貌、结构、光学和电学性能的影响.结果表明:ZnO∶Zr薄膜为六角纤锌矿结构的多晶薄膜,且具有c轴择优取向,溅射压强对薄膜电阻率有显著影响,压强为1.5 Pa时,电阻率具有最小值1.77×10-3 (·cm.所制备的ZnO∶Zr薄膜具有良好的附着性能,在可见光区平均透过率超过93%.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘汉法	山东理工大学物理与光电信息技术学院	57	316	11.0	13.0
2	张化福	山东理工大学物理与光电信息技术学院	52	292	11.0	13.0
3	类成新	山东理工大学物理与光电信息技术学院	48	201	8.0	10.0
4	袁长坤	山东理工大学物理与光电信息技术学院	23	126	6.0	10.0