磁射流抛光的射流稳定性分析

• 作者: 张学成 彭小强 戴一帆 李圣怡
• 来源期刊: 中国机械工程
• 关键词: 磁流变液射流 射流稳定 数值模拟 链状纤维 射流结构
• 年，卷（期）: 2008,（8）
• 所属期刊栏目: 科学基金
• 页码范围: 964-968
• 页数: 5页
• 分类号: TH161
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1004-132X.2008.08.019

摘要

磁射流抛光利用喷嘴出口附近的外加局部轴向磁场稳定磁流变液射流,产生稳定、汇聚的射流束进行远距离确定性精密抛光.为了优化该碰射流抛光工艺,研究了磁流变液射流在外加轴向磁场作用下的稳定性.首先推导了磁流变液射流的运动学模型,分析磁流变效应对射流运动学特征的影响;然后应用有限元方法,基于Maxwell方程和磁流变液射流运动方程,用数值计算的方法模拟了磁流变效应对磁流变液射流的稳定作用;其次通过实验观察了外磁场对磁流变液射流结构的稳定作用;最后结合连续媒质电动力学知识分析了轴向磁场对磁射流的稳定作用.实验结果与理论分析具有较好的一致性:磁流变液在局部轴向磁场作用下形成的纵向链状纤维结构导致其表观黏度迅速增大,能抑制初始动力扰动对射流结构的破坏,从而可以产生长距离稳定、汇聚的射流束.磁射流对距离不敏感的特性在确定性精密抛光高陡度的凹形光学零件和内腔等复杂形面中具有潜在的独特优势.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	戴一帆		64	1121	16.0	32.0
2	李圣怡		77	1079	17.0	30.0
3	彭小强		26	313	10.0	17.0
4	张学成		1	14	1.0	1.0