分子印迹聚合物结合点的选择性修饰

• 作者: 涂伟萍 郑细鸣
• 来源期刊: 化工学报
• 关键词: 分子印迹 特异识别 槲皮素 修饰 热力学
• 年，卷（期）: 2008,（11）
• 所属期刊栏目: 材料化学工程与纳米技术
• 页码范围: 2929-2934
• 页数: 6页
• 分类号: TB383|TQ316.345|TQ325.2
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0438-1157.2008.11.037

摘要

以槲皮素为模板分子,甲基丙烯酸为功能单体,乙二醇二甲基丙烯酸酯为交联剂,制备了分子印迹聚合物(MIP),并以重氮甲烷为修饰剂,对MIP的结合点进行了选择性修饰,探讨了模板分子浓度、溶剂及重氮甲烷用量等对修饰效果的影响.结果表明,选择性修饰能明显提高MIP的识别能力与吸附速度,以柚皮素为竞争分子,分离因子可从修饰前的1.60提高到修饰后的3.06,吸附平衡时间从修饰前的100 min降低至修饰后的60 min;在一定范围内提高模板分子浓度,增大重氮甲烷用量,采用形成氢键能力较弱的溶剂,均能提高修饰效果.测定了修饰前后MIP中不同结合点吸附过程的焓变、熵变和自由能变化,从热力学角度对修饰效果和修饰机理作了进一步的分析.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	涂伟萍	华南理工大学化学与化工学院	349	4631	33.0	48.0