甲基修饰二氧化硅膜的表面自由能与表面结构

• 作者: 杨靖 陈杰珞
• 来源期刊: 材料工程
• 关键词: 二氧化硅膜 表面自由能 润湿性 疏水性 XPS
• 年，卷（期）: 2008,（10）
• 所属期刊栏目: "2008第七届中国国际纳米科技(武汉)研讨会"论文专辑
• 页码范围: 177-182
• 页数: 6页
• 分类号: TQ325|O484
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-4381.2008.10.045

摘要

以正硅酸乙酯(TEOS),甲基三乙氧基硅烷(MTES)为硅源,硝酸为催化剂,制备了甲基修饰的二氧化硅膜,研究了MTES改性二氧化硅膜的表面润湿性与表面结构的关系以及MTES改性二氧化硅膜的吸水率.用已知表面张力的液体测定接触角,按扩展的Fowkes式计算试样的表面张力γs及其三组分值γsd(色散力)、γsp(偶极矩力)和γsb(氢键力),用热重分析(TG)法测定二氧化硅膜的吸水率.结果表明,随着MTES/TEOS摩尔比增大,二氧化硅膜的表面自由能显著减小,表面润湿性降低,主要是表面张力中氢键力组分的贡献.X射线光电子能谱分析表明,这是由于二氧化硅颗粒表面Si-CH3基团增加而Si-O和O-H基团减小所致.随着MTES/TEOS摩尔比增大,二氧化硅膜的吸水率降低,疏水性二氧化硅膜的MTES/TEOS摩尔比应大于0.8.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杨靖	西安交通大学能源与动力工程学院	19	378	10.0	19.0
5	陈杰珞	西安交通大学能源与动力工程学院	5	34	3.0	5.0