5182合金Mg偏析层厚度的控制措施

• 作者: 李太宝
• 来源期刊: 特种铸造及有色合金
• 关键词: 偏析层 结晶器 低液位 铸造速度
• 年，卷（期）: 2008,（6）
• 所属期刊栏目: 实用研究
• 页码范围: 417-419
• 页数: 3页
• 分类号: TG146.2+1
• 语种: 中文
• DOI: 10.3870/j.issn.1001-2249.2008.06.003

摘要

通过对生产中5182合金Mg偏析层缺陷的分析,确定了Mg偏析层缺陷的影响因素,以及控制Mg偏析层厚度的措施.通过采用双排水孔的LHC结晶器,改善冷却强度,铸造开始阶段,冷却水流量为98m3/h,运行阶段线性增加到239m3/h,保证冷却水流量与铸造速度的匹配性,金属液面高度控制在40mm, Mg偏析层厚度有效控制在1.5～2.0mm范围内.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李太宝	山东大学材料科学与工程学院	4	7	2.0	2.0