联合运用VBM方法和DTI技术揭示精神分裂症的神经元基质

• 作者: 吕粟 张体江 李东明 李涛 李秀丽 邓伟 黄晓琦 龚启勇
• 来源期刊: 华西医学
• 学科: 医学
• 关键词: 精神分裂症 基于体素的形态学方法 弥散张量成像
• 年，卷（期）: 2008,（3）
• 所属期刊栏目: 神经生物学
• 页码范围: 435-437
• 页数: 3页
• 分类号: R749.3
• 字数: 2788字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1002-0179.2008.03.004

摘要

目的:运用基于体素形态学VB M(voxel-based morphometry)方法探索未用药的首发精神分裂症患者与正常人脑结构差异 ,并用弥散张量成像DTI(diffusion tensor imaging)技术观察脑白质结构完整性.方法 :纳入18个首发精神分裂症患者,和19个年龄性别都相符的正常人,分别采集高分辨T1WI图像和DTI图像.T1WI图像的处理采用优化的VBM方法进行全脑分析比较.结果:与健康对照组相比,首发精神分裂症患者双侧枕叶和双侧丘脑明显的灰质密度降低,左侧顶枕束、左上纵束及右扣带回后部白质密度降低.而右枕额纤维束,右胼胝体压部到右扣带回后部有相应FA 值降低.结论:联合优化的VBM以及DTI图像分析技术,发现首发精神分裂症患者枕叶视辐射区,丘脑皮质回路(边缘系统)皮质以及白质完整性受损,提示在精神分裂症早期就存在边缘系统和视觉通路的神经发育异常.