氧分压对氧化镍薄膜表面形貌和光电性能的影响

• 作者: 冯博学 刘化然 宋宇 李金荣 杨伟峰 盛英卓 黄鹏
• 来源期刊: 功能材料
• 学科: 物理学
• 关键词: NiOx 射频溅射 电致变色 氧分压
• 年，卷（期）: 2008,（8）
• 所属期刊栏目: 研究与发展
• 页码范围: 1246-1248
• 页数: 3页
• 分类号: O484
• 字数: 1839字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1001-9731.2008.08.003

摘要

采用射频溅射法在SnO2衬底上生长了NiOx薄膜,制备的薄膜是非理想化学计量的微晶薄膜.研究了氧分压对NiOx薄膜的溅射速率、表面形貌和光学电学特性的影响.研究结果显示,O2分压在1∶10时,可得到最快的沉积速率;低的氧分压沉积的薄膜表面比较疏松;随着氧含量的增加,方块电阻呈上升趋势,当氧分压达到一定值时,膜电阻又开始下降;随着氧分压的升高,颜色会逐渐加深,透射率降低.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	盛英卓	兰州大学磁学与磁性材料教育部重点实验室	17	23	3.0	4.0
2	刘化然	兰州大学磁学与磁性材料教育部重点实验室	2	8	2.0	2.0
3	宋宇	兰州大学磁学与磁性材料教育部重点实验室	3	16	2.0	3.0
4	李金荣	兰州大学磁学与磁性材料教育部重点实验室	2	15	2.0	2.0
5	杨伟峰	兰州大学磁学与磁性材料教育部重点实验室	2	15	2.0	2.0
6	冯博学		2	15	2.0	2.0
7	黄鹏	兰州大学磁学与磁性材料教育部重点实验室	2	5	1.0	2.0