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摘要:
报道了一种制作在SIMOX晶圆之上的总计量加固的2μm部分耗尽SOI CMOS 3线-8线译码器电路,其辐照特性由晶体管的阚值电压、电路的静态泄漏电流以及电流电压特性曲线表征.实验表明,该译码器的抗总剂量能力达3×105rad(Si),nMOS管和pMOS管在最坏情况下前栅沟道阈值漂移分别小于20和70mV,并且在辐照、退火以及后续追加辐照过程中无明显的泄漏电流增加,电路的功能并未退化.
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文献信息
篇名 总剂量辐照加固的PDSOI CMOS 3线-8线译码器
来源期刊 半导体学报 学科 工学
关键词 部分耗尽SOI 译码器 总剂量 辐照
年,卷(期) 2008,(6) 所属期刊栏目 研究快报
研究方向 页码范围 1036-1039
页数 4页 分类号 TN46
字数 842字 语种 中文
DOI 10.3321/j.issn:0253-4177.2008.06.003
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 韩郑生 中国科学院徽电子研究所 122 412 10.0 12.0
2 刘刚 中国科学院徽电子研究所 207 2369 24.0 40.0
3 李多力 中国科学院徽电子研究所 16 52 4.0 6.0
4 赵发展 中国科学院徽电子研究所 13 109 5.0 10.0
5 刘梦新 中国科学院徽电子研究所 16 70 5.0 7.0
6 赵超荣 中国科学院徽电子研究所 2 13 2.0 2.0
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半导体学报(英文版)
月刊
1674-4926
11-5781/TN
大16开
北京912信箱
2-184
1980
eng
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