X射线衍射里特沃尔德全谱图拟合法测定粉尘中游离的SiO2

• 作者: 曾令民 李小萍 杨喜英 王力珩 葛宪民
• 来源期刊: 分析化学
• 学科: 化学
• 关键词: 定量分析 游离二氧化硅 非晶体 X射线衍射 Rietveld全谱图拟合法
• 年，卷（期）: 2008,（5）
• 所属期刊栏目: 研究报告
• 页码范围: 599-603
• 页数: 5页
• 分类号: O6
• 字数: 4287字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0253-3820.2008.05.007

摘要

应用X射线衍射技术与Rietveld全谱图拟合法测定了粉尘中游离SiO2的含量,并同时得到粉尘样品中其它晶相和非晶相物质的含量.实验采用日本理学D/MAX 2500V型X射线衍射仪,CuKα辐射带石墨单色器,管电压44 kV,管电流150 mA,步进扫描收集衍射数据,经Jade 5.0软件定性分析, DBWS9807a软件定量分析,结果为:Rp平均等于11.29%,Rwp平均等于13.74%,Rexpected平均等于4.04%.SiO2在各样品中的含量为15.61%～37.83%;加标回收率为102.6%～119.9%;重现性测定相对标准偏差(RSD)为1.14%.结果表明:用Rietveld全谱图拟合法测定粉尘中游离SiO2的含量是一种快速、准确、方便的方法.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	曾令民	广西大学物理科学与工程技术学院材料科学研究所	16	88	5.0	9.0
2	葛宪民		41	188	8.0	12.0
3	李小萍		13	55	4.0	7.0
4	王力珩		10	51	4.0	6.0
5	杨喜英	广西大学化学化工学院	1	14	1.0	1.0