多阶游程受限光盘母盘刻录的建模与工艺

• 作者: 唐毅 宋洁 潘龙法
• 来源期刊: 光学精密工程
• 学科: 工学
• 关键词: 光存储 多阶 母盘刻录工艺 光刻模型
• 年，卷（期）: 2008,（6）
• 所属期刊栏目: 微纳技术与精密机械
• 页码范围: 1063-1068
• 页数: 6页
• 分类号: TP333.4
• 字数: 2464字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1004-924X.2008.06.015

摘要

建立了光盘母盘刻录的光刻模型.该模型使用矢量衍射来计算聚焦光斑的光强分布,使用多层薄膜的光传导来描述光在光刻胶中的传播.给出了关键工艺参数,例如光刻胶厚度、显影液浓度和显影时间,实验研究了这些参数对典型坑点的深度和宽度的影响并进行了仿真.研究结果表明,光刻胶厚度的减小会引起宽度的增大和深度的减小.延长显影时间和增加显影液的效果相当,都会引起坑点宽度和深度的增加.实验和仿真结果吻合,两者偏差在±5 nm以内,证明了模型的正确性.分析结果对实际工作中多阶母盘的制备很有参考价值,同时,理论模型还可用于分析其他工艺参数对母盘刻录的影响,或用于分析其他格式光盘的母盘刻录工艺.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	宋洁	清华大学光盘国家工程研究中心	9	47	3.0	6.0
2	潘龙法	清华大学光盘国家工程研究中心	52	490	10.0	21.0
3	唐毅	清华大学光盘国家工程研究中心	8	24	3.0	4.0