退火对氧化锌薄膜结晶性能的影响

• 作者: 曾雄 杜晓松 杨邦朝 王涛 蒋亚东 谢光忠
• 来源期刊: 功能材料
• 学科: 物理学
• 关键词: ZnO薄膜 退火 摇摆曲线 X射线衍射
• 年，卷（期）: 2008,（5）
• 所属期刊栏目: 研究与开发
• 页码范围: 797-798
• 页数: 2页
• 分类号: O484.1
• 字数: 1340字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1001-9731.2008.05.027

摘要

采用射频磁控溅射法在(001)硅片上制备了ZnO薄膜,利用X射线衍射对薄膜的制备工艺进行了研究,结果表明,基板温度、溅射功率、氩氧比、总气压在一个较大的范围内变化时都可实现薄膜的c轴择优取向生长.随后对薄膜进行了空气退火并利用摇摆曲线表征薄膜的结晶质量,摇摆曲线的半高宽随退火温度的提高而减小,700℃退火后FWHM为2.5°.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杜晓松	电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室	61	434	12.0	16.0
2	蒋亚东	电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室	318	2024	18.0	25.0
3	谢光忠	电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室	48	408	10.0	18.0
4	杨邦朝	电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室	253	3422	31.0	49.0
5	王涛	电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室	55	346	11.0	14.0
6	曾雄	电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室	3	9	2.0	3.0