结合傅里叶变换合成法设计均匀薄膜

• 作者: 刘小涵 尹少辉 朱华新 李香波 王彤彤 王珊珊 王笑夷 申振峰 郑宣明 陈红 高劲松
• 来源期刊: 光学学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 光学薄膜 傅里叶变换合成法 均匀薄膜 单纯形调法
• 年，卷（期）: 2008,（12）
• 所属期刊栏目: 薄膜
• 页码范围: 2436-2440
• 页数: 5页
• 分类号: O484
• 字数: 2833字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0253-2239.2008.12.038

摘要

基于傅里叶变换合成法的基本原理,合成了一个K9基底上的负滤光片,合成的渐变折射率薄膜具有期望光学特性,但实际制备难度很大,因此将其细分为足够多层离散折射率的均匀薄膜,由于实际薄膜材料种类有限,不能获得任意折射率膜层,鉴于两层高低折射率薄层可近似为一层中间折射率膜层的思想,将膜系转化成一个可实际制备的膜系结构:膜系采用ZrO2和SiO2两种膜料,膜层总数为183层,经单纯形调法优化后,膜层总厚度为7.09 μm,通带和截止带内平均透射比分别为97.56%和3.13%,其结果优于直接采用傅里叶方法合成的非均匀膜系,与期望透射比曲线吻合更好.说明通过这种思想设计任意光谱特性的膜系是可行的,也使傅里叶变换合成法设计的薄膜实际制备成为可能.