外源硅对纹枯病菌(Rhizoctonia solani)侵染下水稻叶片光合功能的改善

• 作者: 刘健 孙国荣 张军 张国良 张洪程 戴其根 王显 许轲 陈文军 霍中洋
• 来源期刊: 生态学报
• 关键词: 外源硅 纹枯病菌Rhizoctoniasolani 水稻 光合作用 荧光参数 MDA含量
• 年，卷（期）: 2008,（10）
• 页码范围: 4881-4890
• 页数: 10页
• 分类号: Q142|Q938|Q945|X171
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-0933.2008.10.032

摘要

为了进一步探讨外源加硅增强水稻对纹枯病的抗性作用,以抗病品种91SP和感病品种Lemont为材料,研究了人工接种纹枯病菌条件下外源硅对水稻叶片叶绿素含量、光合作用、叶绿素荧光特性和MDA含量的影响.结果表明:(1)外源加硅能降低抗病品种91SP的纹枯病病级和病情指数,显著降低感病品种Lemont的病级和病情指数;(2)接种纹枯病菌后,水稻叶片叶绿素含量、净光合速率(Pn)、气孔导度(Gs)均明显降低,胞间CO2浓度(Ci)增大,而加硅处理的水稻叶片叶绿素含量、Pn、Gs不同程度增加,Ci有所降低;(3)接种纹枯病菌后,两个品种PSⅡ最大光化学效率(Fv/Fm)、PSⅡ有效光化学效率(Fv′/Fm′)、PSⅡ实际光化学效率(ΦPSⅡ)、光化学猝灭系数(qP)和表观光合电子传递速率(ETR)均降低,非光化学猝灭系数(qNP)增大,而对于加硅处理的水稻叶片,上述荧光参数在纹枯病菌侵染条件下的变化均受到不同程度的抑制.(4)外源硅可不同程度地减缓纹枯病菌侵染引起的丙二醛(MDA)含量的增加,对感病品种Lemont的缓解作用要大于抗病品种91SP.可见,外源硅处理可以不同程度地缓解纹枯病菌侵染条件下非气孔因素引起的水稻叶片光合速率的下降以及对光合机构的破坏作用,提高光化学效率,改善叶片的光合功能,减轻叶片膜脂过氧化程度,增强水稻对纹枯病的抗性.