溅射制备Ni-Mn-Ga磁性形状记忆合金薄膜的组织结构研究

• 作者: 何亮 卢寅蓓 李莱芝 钱士强
• 来源期刊: 材料工程
• 关键词: Ni-Mn-Ga合金 磁控溅射 磁性形状记忆合金
• 年，卷（期）: 2008,（z1）
• 页码范围: 168-170
• 页数: 3页
• 分类号: TG1
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-4381.2008.z1.032

摘要

采用磁控溅射法制备Ni-Mn-Ga磁性形状记忆合金薄膜,并将制备薄膜在不同的温度下进行真空热处理.研究了不同工艺条件下制备薄膜的结构、形貌和磁性.结果表明:采用磁控溅射在单晶Si基底上溅射Ni-Mn-Ga磁性形状记忆合金薄膜,主要为沿基底法线方向的柱状晶结构,随着热处理温度提高,薄膜晶化程度提高,沉积在Cu基底上的薄膜磁性优于沉积在Si基底上薄膜的磁性.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	钱士强	上海工程技术大学材料工程学院	51	314	10.0	16.0
2	何亮	上海工程技术大学材料工程学院	38	131	4.0	11.0
3	卢寅蓓	上海工程技术大学材料工程学院	1	0	0.0	0.0
4	李莱芝	上海工程技术大学材料工程学院	1	0	0.0	0.0