厚度与纳米二氧化硅掺杂对义齿基托气孔率的影响

• 作者: 李晓光 段蔚泓 王颖
• 来源期刊: 黑龙江医药科学
• 学科: 医学
• 关键词: 纳米二氧化硅 厚度 气孔率
• 年，卷（期）: 2008,（2）
• 所属期刊栏目: 调查与实验研究
• 页码范围: 85-86
• 页数: 2页
• 分类号: R783.6
• 字数: 3617字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1008-0104.2008.02.020

摘要

目的:考察厚度与纳米SiO2掺杂对聚甲基丙烯酸甲酯义齿基托气孔率的影响.方法:采用两种材料聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)和纳米二氧化硅/聚甲基丙烯酸甲酯复合材料(PMMA/SiO2)制备长65mm,宽40mm,厚度分别为3mm、5mm、7mm、9mm长方体树脂八组,每组8个,共64个.试件均经过打磨、抛光,干燥至恒重后记数,再放入37℃蒸馏水中浸泡至恒重记数.根据公式计算气孔率.结果:随着厚度的增加,两组材料气孔率均随之增加.在同厚度下,PMMA材料组与PMMA/SiO2复合材料组的气孔率差异无统计学意义(P>0.05).结论:厚度对义齿基托气孔率影响较大.添加SiO2纳米颗粒对义齿基托的气孔率没有明显的影响.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	段蔚泓	佳木斯大学口腔医学院	21	66	5.0	7.0
2	李晓光	佳木斯大学口腔医学院	30	71	6.0	6.0
3	王颖	佳木斯大学口腔医学院	8	31	3.0	5.0