利用电子束光刻制备晶面依赖的硅纳米结构

• 作者: 张杨 杨富华 杨香 王颖 韩伟华
• 来源期刊: 半导体学报
• 学科: 工学
• 关键词: 硅纳米结构 各向异性湿法腐蚀 电子束光刻
• 年，卷（期）: 2008,（6）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 1057-1061
• 页数: 5页
• 分类号: TN405
• 字数: 496字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0253-4177.2008.06.008

摘要

利用电子束光刻和各向异性湿法腐蚀技术,在(100)SOI衬底上成功地制备出晶面依赖的硅纳米结构.这项技术利用了硅的不同晶面在碱性腐蚀溶液中具有不同腐蚀速率的特性.纳米结构脊部宽度的最小尺寸可以达到10nm以下.扫描电镜和原子力显微镜的观察表明,利用这种方法制备出来的纳米结构具有很好的重复性,而且表面光滑.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王颖	中国科学院半导体研究所半导体集成技术工程研究中心	147	1291	18.0	30.0
2	张杨	中国科学院半导体研究所半导体集成技术工程研究中心	43	179	7.0	12.0
3	韩伟华	中国科学院半导体研究所半导体集成技术工程研究中心	20	98	5.0	9.0
4	杨富华	中国科学院半导体研究所半导体集成技术工程研究中心	49	227	9.0	14.0
5	杨香	中国科学院半导体研究所半导体集成技术工程研究中心	1	2	1.0	1.0