YBa2Cu3O7-x涂层导体的外延生长和性能对CeO2缓冲层的依赖性

• 作者: 于本方 刘军 李美亚 汪晶 赵兴中 郭冬云
• 来源期刊: 物理学报
• 学科: 物理学
• 关键词: YBa2Cu3O7-x镀膜导体 CeO2缓冲层 厚度依赖性 外延生长
• 年，卷（期）: 2008,（5）
• 所属期刊栏目: 凝聚物质:结构、热学和力学性质
• 页码范围: 3132-3137
• 页数: 6页
• 分类号: O4
• 字数: 3214字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-3290.2008.05.081

摘要

利用倾斜衬底沉积法在无织构的金属衬底上生长了MgO双轴织构的模板层,在这一模板层上实现了YBa2Cu3O7-x薄膜的外延生长.在外延YBa2Cu3O7-x薄膜前,依次沉积了钇稳定的立方氧化锆和CeO2作为缓冲层.利用X射线衍射2θ扫描、φ扫描、Ω扫描和极图分析测定了这些膜的结构和双轴织构取向,利用Raman光谱表征了其超导相的品质和取向特性,利用扫描电镜和原子力显微镜观测了薄膜的表面形貌和粗糙度.考察了不同厚度的CeO2层对YBa2Cu3O7-x生长和性质的影响.发现了YBa2Cu3O7-x薄膜的外延生长和性能对CeO2的不同厚度具有显著而独特依赖性.讨论了其可能的机理.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	赵兴中	武汉大学物理科学与技术学院	35	134	6.0	10.0
5	刘军	武汉大学物理科学与技术学院	112	592	11.0	18.0
6	李美亚	武汉大学物理科学与技术学院	29	85	5.0	6.0
10	汪晶	武汉大学物理科学与技术学院	8	47	3.0	6.0
11	于本方	武汉大学物理科学与技术学院	4	8	2.0	2.0
12	郭冬云	武汉大学物理科学与技术学院	8	32	4.0	5.0