光刻工艺中的曝光技术比较

• 作者: 王宏睿 祝金国
• 来源期刊: 现代制造工程
• 学科: 工学
• 关键词: 光刻 曝光技术 区别
• 年，卷（期）: 2008,（12）
• 所属期刊栏目: 综述
• 页码范围: 131-135
• 页数: 5页
• 分类号: TN383
• 字数: 4370字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1671-3133.2008.12.039

摘要

介绍目前比较前沿的光学曝光、电子束曝光、离子束曝光、X射线曝光和极紫外曝光等曝光方法.并对这些光刻曝光技术进行相应的比较.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王宏睿	南京工程学院机械工程学院	16	121	5.0	10.0
2	祝金国	苏州三星电子有限公司压缩机品质部	3	33	3.0	3.0