表面粗化工艺对IPMC的制备及性能的影响

• 作者: 卞侃 熊克 王帮峰 金宁 陈骐
• 来源期刊: 功能材料
• 学科: 化学
• 关键词: IPMC 表面粗化 SEM分析
• 年，卷（期）: 2008,（11）
• 所属期刊栏目: 研究与开发
• 页码范围: 1933-1936
• 页数: 4页
• 分类号: O657
• 字数: 3903字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1001-9731.2008.11.048

摘要

基于二次渗透还原法对IPMC材料的制备进行研究.探索3种不同的基膜表面粗化方法对IPMC材料特性的影响.表面粗化方法包括手工打磨、砂光机打磨以及等离子体表面处理方法.通过样件实测对3种不同粗化条件下获得的IPMC材料的外观特征、微现形貌、驱动变形特性以及表面电阻特性进行了测试和比较.实验结果表明,随着表面粗化均匀程度的提高,基膜表面及内部金属沉积均匀与致密性增高,材料的驱动变形能力降低.在一定的驱动电压范围内,IPMC材料的变形与电压近似成线形增加的关系.在相同的尺寸、约束以及驱动电压(3V)条件下,手工打磨的样件能够产生60°的弯曲变形,砂光机打磨样件为45°,而等离子体处理的样件只有15°.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王帮峰	南京航空航天大学智能材料结构航空科技重点实验室	68	568	15.0	20.0
2	熊克	南京航空航天大学智能材料结构航空科技重点实验室	56	536	13.0	21.0
3	金宁	南京航空航天大学智能材料结构航空科技重点实验室	4	25	2.0	4.0
4	卞侃	南京航空航天大学智能材料结构航空科技重点实验室	9	59	5.0	7.0
5	陈骐	南京航空航天大学智能材料结构航空科技重点实验室	3	23	2.0	3.0