外国在华专利申请影响因素实证分析

• 作者: 孙玉涛 杨中楷
• 来源期刊: 科技管理研究
• 学科: 社会科学
• 关键词: 外国申请 专利保护水平 科尔尼指数 在美专利 FDI 地理距离
• 年，卷（期）: 2008,（12）
• 所属期刊栏目: 知识产权管理
• 页码范围: 455-457
• 页数: 3页
• 分类号: G306
• 字数: 3431字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-7695.2008.12.156

摘要

近年来,外国在华专利申请呈现持续增长的势头,且伴随着外国专利的申请,国外企业与中国企业的专利竞争也愈加激烈.通过机理和数理分析可以发现,外国在华专利申请受到我国专利保护水平、市场吸引力以及该国总体技术水平、在华直接投资数量等因素的影响.另外一个有意思的结论是,外国在华专利申请与两国之间的距离没有直接的相关关系.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	孙玉涛	大连理工大学经济系	85	1645	24.0	36.0