低损耗193 nm增透膜

• 作者: 尚淑珍 范正修 邵建达
• 来源期刊: 物理学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 193nm 增透膜 光学损耗 剩余反射率
• 年，卷（期）: 2008,（3）
• 所属期刊栏目: 物理学交叉学科及有关科学技术领域
• 页码范围: 1946-1950
• 页数: 5页
• 分类号: O4
• 字数: 2563字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-3290.2008.03.109

摘要

计算了适用于193nm增透膜设计与制备的基底与薄膜材料的光学常数,并在此基础上对193nm增透膜进行了设计、制备与性能分析.发现基底材料的吸收损耗对增透膜元件的影响很大,超过一定值时,增透膜元件的设计透过率将达不到理想水平.对单面增透膜的设计与制备结果表明,当吸收损耗降低到一定程度,散射损耗成为不可忽略的因素.采用热舟蒸发方法实现了性能良好的193 nm减反射膜,剩余反射率在0.2%以下.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	邵建达	中国科学院上海光学精密机械研究所	212	2131	21.0	29.0
2	尚淑珍	华东理工大学机械与动力工程学院承压系统安全科学教育部重点实验室	19	135	8.0	11.0
3	范正修	中国科学院上海光学精密机械研究所	203	2312	23.0	32.0