碳纳米管场发射薄膜发射电流变化的理论分析

• 作者: 杨云青 梁孝云 牛君杰 王蜀霞 胡慧君 饶早英
• 来源期刊: 材料导报
• 学科: 工学
• 关键词: 场发射 热电子发射 势垒 位相变化
• 年，卷（期）: 2008,（3）
• 所属期刊栏目: 材料综述
• 页码范围: 16-18
• 页数: 3页
• 分类号: TB3
• 字数: 2297字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1005-023X.2008.03.004

摘要

碳纳米管薄膜具有优于传统发射器件的场发射特征,但它的场发射电流曲线只在低场区与特征曲线符合较好,在高场区偏离特征曲线.讨论了热电子发射、量子隧穿导致的位相改变对发射电流的影响,分析了场发射电流、位相的变化,解释了高场区发射电流曲线偏离的原因.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王蜀霞	重庆大学数理学院物理系	26	122	6.0	9.0
2	饶早英	重庆大学数理学院物理系	11	39	4.0	5.0
3	杨云青	重庆大学数理学院物理系	9	33	4.0	5.0
4	胡慧君	重庆大学数理学院物理系	9	33	4.0	5.0
5	牛君杰	重庆大学数理学院物理系	9	33	4.0	5.0