茶碱分子印迹PDVB-SO3H/PDVB IPN的合成及应用条件探讨

• 作者: 朱卓越 黄淑芳
• 来源期刊: 湖南科技学院学报
• 学科: 文学
• 关键词: 分子印迹 互穿聚合物网络 磺化聚二乙烯基苯 聚二乙烯基苯 茶碱 吸附
• 年，卷（期）: 2008,（8）
• 所属期刊栏目: 化学·生物
• 页码范围: 38-40
• 页数: 3页
• 分类号: H059
• 字数: 2728字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1673-2219.2008.08.013

摘要

将工业二乙烯基苯和致孔剂溶胀到磺化聚二乙烯基苯树脂球中,通过悬浮聚合合成了茶碱分子印迹和非分子印迹的大孔磺化聚二乙烯基苯/聚二乙烯基苯互穿聚合物网络(PDVB-SO3H/PDVB IPN)珠体,考察了反应时间、分散剂和吸附介质对其吸附性能的影响.结果表明,吸附平衡时间是24小时,最好的分散剂为3% NaCl、1% PVA;而且CHCl3对茶碱分子印迹PDVB-SO3H/PDVB IPN树脂有"拉平效应",而水对树脂有"区分效应".

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	朱卓越		21	40	3.0	5.0
2	黄淑芳		10	26	2.0	5.0